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洁净室的划分是以单位体积内所含灰尘数来计算的，数目越小表示洁净等级越高，一般每一级的划分都有不同直径灰尘数的要求，比如一般药厂、汽车4s店，十万级或万级就够了，但这对电子行业（尤其是微电子行业）仅仅是di要求，比如半导体行业等级要求di的测试间一般都不能高于1万级，但对于洁净要求严格的如光刻间，基本上都是百级，甚至十级的。采用净化技术去除洁净车间菌、***气体，***的净化工程公司会在净化系统送、回风管道安装净化设备，再结合净化技术，将菌、***气体去除。但要注意，由于灰尘无处不在，所以jue对的0级是不可能存在的。

无尘洁净棚又名净化洁净棚、百级洁净棚、千级洁净棚、万级洁净棚，为在乱流式之无尘车间空间内以防静电之透明塑料布围成一小空间，采用***之HEPA或 ULPA及空调送风机组而成为较好洁净空间，内部空间高度在2.0米左右，覆盖面积约50m2以下，四支支柱可加装活动轮，可为弹性运用，可配套风淋室使用。液体制剂GMP车间的净化参数1、换气次数：100000级≥15次。

无尘洁净棚材料：无尘洁净棚的框架一般有：不锈钢方通，铁方通，铝型材三种。净化车间温度、湿度的测试方法：1、GMP净化车间温度的测试：应将洁净工作区划分为等面积的栅格，每个分格面积不超过100平方米或与建设方协商确定，每格测点1个以上，每个房间测点至少2个。无尘洁净棚顶部材料一般有：不锈钢板，冷轧钢板喷塑，防静电网格围帘，(防静电)亚克力板三种。洁净送风部分，一般选择FFU层流罩(FFU层流送风单元)无尘洁净棚的围护材料一般包括：防静电围帘，(防静电)亚克力板两种。

洁净室中的温湿度控制：

洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。

具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。经过这套外形很“酷”的防尘装备可将人们身上已有的灰尘隔离在无尘洁净室之外，但这才是第1步。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。

湿度过高产生的问题更多。很多由非***人员设计装修的车间，可能空气洁净度控制、空调温湿度没什么问题，但因为缺乏***理解，设计的系统存在很多不合理、隐性的缺陷问题。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。